落后,但是突破可能性有四颗星。
\n
设备材料领域,小日子垄断光刻胶和靶材,美利坚垄断沉积和刻蚀设备,中国刚实现cmp设备的初步突破。
\n
国内远远落后于国际,突破可能性仅两颗星。
\n
基于现状,战投部得出结论:
\n
一、集团应在3~5年的短期内,以28nm成熟制程全链条国产化为核心目标,且避开极紫光禁区;
\n
二、集团应在10~15年的长期内,通过技术合作+逆向创新+弯道超车切入下一代光刻技术。
\n
看到这里,王诩叹了一口气,仿佛看到了苏联专家撤走、西方封锁出口的艰苦年代。
\n
此时此刻恰如彼时彼刻。
\n
“一旦中美关系恶化,美国人估计就要拿芯片这个玩意儿,在中国人头顶悬好几年了。”王诩有感而发,幽然慨叹。
\n
胡不言听得耳朵一动,心中一凛。
\n
通过这句感慨,他充分领会到了王总对芯片发展落后的担忧,以及实现突破的决心。
\n
看来必须加快和莫总一起往集团搂人的动作了……胡不言如此想道。
\n
而王诩继续往下翻阅文件。
\n
讲完现状和基于现状的结论,战投部在文件的第二部分内容给出了相关领域的破局计划。
\n
首先是国际技术合作路径。
\n
该路径有三条分支。
\n
第一,参与lmsa的客户共投计划,获取极紫外光优先供应权+技术渗透。
\n
&nb
本章未完,请点击下一页继续阅读! 第2页 / 共8页