第211章 秘密的光刻机部门

几分钟后，加工后的硅片从光刻机出来，进入下一道工艺——烘焙，又简称后烘。

这一步的目的是通过加热，让光刻胶中光化学反应充分完成，可以弥补曝光强度不足的问题。

同时还能减少光刻机显影后，因为驻波效应产生的一圈圈纹路。

后烘之后，再把之前曝光的部分溶解清除，光掩模上的图形就出现在了光刻胶上，再用去离子水冲洗。

最后再进行一遍烘焙，不过这次是叫“坚膜烘焙”，当然这里是针对湿法，如果是用等离子体的干法刻蚀，这一步可以省略。

进行了这么多步骤后，才来到观察精度和测量，也就是这次马天最直观要展示的成果——光刻精度展示。

9n的工艺，用普通的光学显微镜肯定不够看了，众人也是来到了原子力显微镜台。

白衣服的工作人员把刚刚经过好几步加工的硅片放在了显微镜台上，众人可以通过仪器精细查看上面的精度了。

9n的测量结果，赫然呈现在大屏幕上。

聂振远也不认为马天会故弄玄虚半天骗他，也就是说，天宇星海真的有光刻9n精度芯片的技术。

现在只要夏为有一张自己的芯片设计图，天宇星海就能最少帮他们造出9n精度的芯片。

(本章完)