第209章 啥叫瞪谁谁死系统 木总懵了

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“气相成底膜！”

随着操作人员的报出指令，一步步程序有序进行。

“旋转涂胶！”

在光刻机内部，机器自动在晶片上涂上光刻胶，随着晶片的转动，检测工具同时启动，大概多了三分钟，随着显示灯上绿灯亮起，这一步也完成了，机器臂直接送到软烘箱，在暖烘箱里面，温度精准到87度的，湿度在7以内的干燥空气缓缓流动。

而每一步都有数个传感器在跟踪，光刻胶烘干之后，便送到工台上，整个对准的时间只要30秒。

“太先进了！”

“我以为pa3000已经很先进，没想到du1800先进这么多！”

“是啊，整个过程缩短了十七分钟！”

曝光需要用五个激光脉冲，而多重曝光需要在程序里面设置曝光三次，然后用第二张掩膜版，分两轮曝光才能得到想要的图案，完成之后浸入显影液中，拿出来继续烘培，传感器进行显影检查……

考验技术的时候来了，一种先进的制程不是先进的光刻机就能解决的，哪怕后世三星、台积电，他们买duv光刻机也是不受限制的，但他们搞3纳米，5纳米，也要投入上百亿美元来研发。

先进的支持需要设计匹配的半导体结构，比如finfet结构，需要设计曝光方法，比如多重曝光方案，哪怕这些都解决了，伱这是在硅片上把这些半导体晶体管制造出来了。

可还有一项你要是没有解决的话，芯片还是不能发挥作用。

那就是连接半导体之间的导线。

行业

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