重生,我在八十年代投机倒把 第274节

任总是跟我们这些老邻居跟前说起你。”

江小溪顿时不好意思起来，当时来的人太多，江小溪确实记不清了。

好在方主任并没哟在意，反而因为这层关系对江小溪十分亲切。

也正是因为对基金会有了解，所以知道江小溪的资产，所以他才起了和江小溪一起开展另外研究课题。

双方寒暄几句，方主任就直接进入了正题，提出了一个让江小溪惊讶的课题——arf光刻胶研究。

光刻胶，是指通过紫外光、电子束、离子束、x射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。

光刻胶主要应用于显示面板、集成电路和半导体分立器件等细微图形加工作业。

光刻胶为光刻机的一项重要材料，而光刻机被誉为“半导体工业皇冠上的明珠”。

第512章 研究经费

对于光刻胶的发展，目前可以分为四个阶段，ktfr光刻胶、g线/i线光刻胶、krf光刻胶以及arf光刻胶。

arf光刻胶是世界最新的光刻胶技术，它继承了krf光刻胶的基础，也属于化学放大光刻胶。

半导体工艺开发联imec正式将arf光刻胶用作两千年下一代半导体0.13μm工艺的抗蚀剂。

只是相对于世界前沿的光刻胶技术，华夏的光刻胶发展简直称得上可怜。

华夏光刻胶的研究始于六七十年代，六七年的时候，华夏kpr型负性光刻胶就已经投产

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