第5章 等离子能量微投影系统

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“哦，对对对，可能是叫法不一样！简单来说，光刻机就是制造芯片的关键设备，芯片知道吧？它是现代电子设备的核心，没有芯片，电脑、手机、智能设备全都玩不转。而光刻机就是用来生产芯片的工具。”林奕一拍脑门，恍然大悟。

“嗯，听起来是基础工业科技……”苏清宁若有所思地点了点头。

“基础可不简单！这个技术已经被国外卡脖子很多年了，我们国家现在最迫切的需求就是突破光刻机技术，尤其是高精度的。”林奕打断她。

苏清宁听完，眉头微微一挑，似乎对“卡脖子”这种说法有些不解，不过她并没有深究，而是若有所思地自自语：“原来你说的是等离子能量微投影系统？”

“等离子能量微投影系统？”林奕重复了一遍，光是名字就让他觉得高大上。

“这是我们废土世界用来制造纳米级设备的核心技术。听你描述的功能，应该和你们的光刻机差不多。不过，我们的技术早已超越传统的物理光学成像，改用等离子能量进行三维投影制造。”苏清宁淡淡说道。

“这玩意儿听起来比光刻机牛多了吧！直接纳米级制造？三维投影？”林奕听得目瞪口呆，忍不住脱口而出。

“等离子能量投影系统的核心技术，不是传统的光学或者电子束，而是利用高能等离子体在纳米级材料上的能量激发。通过等离子场的精准调控，我们可以直接将三维投影的设计数据传递到材料上。整个过程不需要光刻掩膜或者多层曝光，效率远高于你们所谓的光刻机。”

“直接用能量场刻印？不用光刻掩膜？”林奕听得瞠目结舌。

果然是领先两个时代的科技呀，这是完全推翻了现有的工业基础重新创立的呀。

“我们用这种方法制造的芯片，理论上可以达到0.1纳米的极限精度。但实际上，为了性能与稳定性的平衡，我们通常生产的是0.5纳米到1纳米之间的芯片。以你们的技术标准，这已经是超越时代的水平了。”苏清宁继续说道。

“0.5纳米到1纳米……我们现在最先进的技术也才刚刚突破5纳米，听说3纳米的研发还在攻坚中！你的这个技术要是带到我们这里来，简直是降维打击啊！”林奕忍不住吸了口冷气。

“对我们来说，这种技术只是基础工业而已。如果你拿到这些资料，不仅要小心技术失控。”苏清宁冷冷瞥了他一眼。

“放心，我保证，只是作为技术研究参考，绝对不会

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