,保护结构的完整性等。
通过调整光刻的工艺条件,也能够间接地改善机械强度和抗刻蚀性。
甚至令李暮有些意外地提出了分层设计的想法。
“采用多层光刻胶结构,低分子量树脂作为顶层,高分子量或抗刻蚀树脂作为底层。通过物理分层直接隔离性能需求,你觉得可不可行?”黄新华问道。
李暮笑道:
“当然可行,不过想要实现,需要克服多个难点。”
“不同的光刻胶层之间需要具有良好的粘附性,避免层间混合或界面的缺陷的出现。”
“还有就是工艺兼容性的问题,溶剂侵蚀、热膨胀系统不匹配,都有可能影响成品……”
他说了一下自己的意见。
分层设计,也叫多层光刻胶技术。
不过这种技术,尽管在理论上具有显著优势。
在实际应用中,却面临诸多技术难点和设备要求。
除了上述的问题之外。
还有分辨率与厚度的平衡问题、缺陷控制问题等。
另外在设备上,也需要专门的机器做支持。
比如高精度的旋涂机或喷涂设备、高精度的曝光机、高精度的显影机等。
整体来说。
效果好,成本也高。
“既然你都这么说了,那我们再好好考虑考虑。”黄新华果断道。
在他
本章未完,请点击下一页继续阅读! 第9页 / 共17页