第458章 盾构机

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说完了光源。

李暮接着又说起光学系统。

现在他们的光学系统，还属于相对初级阶段。

主要采用的是2:1投影光学系统。

这种技术将掩模上的图案以2:1的比例投影到晶圆上，设计相对简单，分辨率也受到不小的限制。

如果可以提升到4:1，甚至是5：1的话。

解决100w集成度的标准，不会有任何问题。

除此之外，还可以在高数值孔径透镜和浸没式光学系统方面下功夫。

只不过以目前的技术来说，想要同时推进三者的研究，难度实在太大了。

好在也没必要在光学系统上死磕。

掩模技术上可以搞相移掩模、光学邻近矫正和多重图案技术。

光刻胶材料朝着深紫外光刻胶的方向发展。

机械和控制系统就去研制精密对准和调平系统。

多管齐下的话。

足够在短时间内实现集成度的迅速突破。

……

用了两个小时左右的时间。

李暮才将所有的内容都阐述完毕。

他说完后。

黄新华“唰唰~”地记完最后一笔，当即惊叹道：

“没想到你竟然还能找出这么

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