芯片生产。
海湾科技研发出来的hl-af6508型duv干式光刻机,可没办法干这个活!
哪怕采用双重曝光技术也非常困难,这里头还有着套刻精度的要求,海湾科技的第一台duv干式光刻机,套刻精度只有八纳米,而根据海湾科技方面的技术研究,想要搞双重曝光的话,至少也得5.6纳米的套刻精度,这样才能够通过双重曝光做出来四十纳米的工艺。
很可惜,目前的海湾科技的光刻机套刻精度,还达不到这个程度。
就算能达到,也没啥实际用处。
因为成本太高了!
现在的四十五纳米工艺芯片,都已经算是落后制程芯片了,你还用多重曝光技术大幅度增加成本,得亏死你。
当然,这说的是正常市场环境下……如果是不正常的市场环境下,也是可以这么做的。
因此海湾科技那边,也对这方面的技术进行一定的研究,算是作为一个技术储备的研发吧,实际上没啥卵用!
毕竟哪怕爆发战争之类的极端事件,以海湾科技的技术能力,也能够维护进口的一大堆duv浸润式光刻机的运行。
而智云微电子进口的duv浸润式光刻机,那可是相当多。
目前已经投入使用,以及算上已经到货,正在安装调试的duv浸润式光刻机,总量有六十三台。
对应的是智云微电子之前规划的月产十五万片十二寸晶圆的产能。
此外还有大量duv浸润式光刻机的订单,因为智云微电子还在修建更多的晶圆厂,正在持续提升产能,asl那边每年都要给智云微电子交付二三十台duv浸润式光刻机呢。
至于最后智云微
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