第172章 全新歼-20首次模拟战斗!以一敌十!忍无可忍的鹰酱!(6k)
寂静的气氛持续了有几十秒,似乎连喘气声都清晰可见。
赵思远看着手中这一沓文件,一脸懵逼道:“张院长你没在开玩笑吧?”
“光刻机?duv技术光刻机?我们几时有这一种技术了?”
别说浸润式duv光刻机,更别说什么32n的制程,目前他们夏微电子也只能做到90n制程的投影式光刻机罢了。
结果你告诉他,现在夏科院拥有32n的duv光刻机技术?这是在开哪门子的玩笑?
都不能算是跨越式发展了,而是直接一飞冲天到了外太空。
“你先看看就知道了。”张予理颔首笑道。
“那我先看看吧.”
赵思远拧巴着眉头,带着疑惑打开了这一份文件。
看面倒是没有介绍什么研制方式,毕竟那实在是太过于繁琐了,而是一些十分简单的综述。
然而,既然如此他只是瞥了一眼上面写的描述,立刻脸上呆滞住了。
【利用26*8狭缝扫描,令晶圆片与掩膜版同步动态扫描.使其达成26*33曝光场.技术实施路线为:.】
【利用多重曝光技术.三重曝光(lelele)使其拆分为多个掩膜版上,使其图像雕刻密度迭加,工艺制程成倍提升,实施手段为:】
【.】
尽管只是粗略的看了几眼,但是从这些综述上而言他并没有发现太大问题。
 
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