第227章 给Intel下的陷阱

sp;而想要用跟铝导线那样，用金属衬垫，然后用物理气相沉积的方法是行不通的。

按照原来的历史，intel跟ibm在接下来的五年内，将把元素周期表试了一个遍，了几十亿美元的研发费用，才找到钴钽包铜的方案。

而小赵老师为让intel走点弯路，加上一层可有可无的金、钨金属沉积层，虽然制造成本每个颗粒增加了三美元，但还是值的。

镁光很快用光谱仪分析出导线所需要的材料。

铜、金、钽、钴、钨……

头疼了，导线竟然有五种元素，不单纯是铜，他们分析不出制造工艺。

而同时intel的工程师同样在对中讯的内存颗粒进行开肠破肚。

他们同样得到两个技术指标，500纳米制程，铜连接。

“他们的导线大概78%的铜，12%的金，3%的钴还有7%的钽？”

“衬底是什么材料？”

“没有检测到衬底金属？”

intel的工程师在这个时候懵了，没有衬底金属?他们怎么解决铜沉积破坏硅基底的，想不通啊……

跟铝与硅基不亲和一样，铜沉积不是不亲和了，那是能改变硅基的物理性质，只能在铜与硅基之间加一个过渡层……可是……没有……为什么？

为什么，当然是不想让你们知道。

产品被人拿来研究，是小赵老师意料之中的事，而同时在产品上设置几道陷阱也是常有的事情。

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